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- カテゴリ:一般
- 発行年月:2010.1
- 出版社: 丸善
- サイズ:26cm/612p
- 利用対象:一般
- ISBN:978-4-621-08223-2
- 国内送料無料
紙の本
プラズマ/プロセスの原理 第2版
著者 Michael A.Lieberman (著),Allan J.Lichtenberg (著),堀 勝 (監修),佐藤 久明 (訳)
半導体製造装置において使用される弱電離、非平衡プラズマに焦点を絞り、プラズマとプラズマ・プロセスに関する解析方法を基礎から応用まで原理的、解析的、系統的に解説。また、解析...
プラズマ/プロセスの原理 第2版
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商品説明
半導体製造装置において使用される弱電離、非平衡プラズマに焦点を絞り、プラズマとプラズマ・プロセスに関する解析方法を基礎から応用まで原理的、解析的、系統的に解説。また、解析結果の適用方法を、多くの例題で提示。〔初版:EDリサーチ社 2001年刊〕【「TRC MARC」の商品解説】
著者紹介
Michael A.Lieberman
- 略歴
- 〈Michael A.Lieberman〉カリフォルニア大学大学院バークレー校電気工学科教授。
〈Allan J.Lichtenberg〉カリフォルニア大学大学院バークレー校電気工学科教授。
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